对ITO薄膜透过率和电阻性能有影响的工艺条件主要有:氧气流量,加热温度,厚度。
其实 只要做几个简单的实验,就可以看出每个参数对其性能影响的趋势。
给你一个具体的参数是没有意义的,因为每个具体的工艺环境都不一样。 镀膜温度30度,速率0.1nm/s,IAD O2 10sccm,Thickness=25nm。方阻大概700欧左右。 {:6_151:} {:6_143:}{:6_143:} 学习
真有高手使用离子源镀制ITO吗?个人经验好像这个做法行不通 qjy 发表于 2013-5-4 23:19 static/image/common/back.gif
真有高手使用离子源镀制ITO吗?个人经验好像这个做法行不通
这个可以有!
等离子体代替电子束加热的更好!
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