楼主: baron

用电子枪镀ITO 工艺参数要如何设置

 火... [复制链接]
发表于 2009-8-31 18:22:32 | 显示全部楼层
长期高价求购ITO废靶材,废粉,13400703921,翁先生.
发表于 2009-9-1 08:29:25 | 显示全部楼层
学习了,长见识了,谢谢!
发表于 2009-9-1 11:03:22 | 显示全部楼层
7# baron
对ITO薄膜透过率和电阻性能有影响的工艺条件主要有:氧气流量,加热温度,厚度。
其实 只要做几个简单的实验,就可以看出每个参数对其性能影响的趋势。
给你一个具体的参数是没有意义的,因为每个具体的工艺环境都不一样。
发表于 2009-9-1 12:16:19 | 显示全部楼层
镀膜温度30度,速率0.1nm/s,IAD O2 10sccm,Thickness=25nm。方阻大概700欧左右。
发表于 2013-4-27 13:16:09 | 显示全部楼层
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发表于 2013-4-28 11:12:55 | 显示全部楼层
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发表于 2013-5-3 15:26:49 | 显示全部楼层
学习
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发表于 2013-5-4 23:19:25 | 显示全部楼层
真有高手使用离子源镀制ITO吗?个人经验好像这个做法行不通
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发表于 2013-5-8 19:06:49 | 显示全部楼层
qjy 发表于 2013-5-4 23:19
真有高手使用离子源镀制ITO吗?个人经验好像这个做法行不通

这个可以有!
等离子体代替电子束加热的更好!
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