终南子
发表于 2006-11-19 19:15:00
<p>这个指标已经很低了</p>
skyperfect
发表于 2006-12-2 00:26:00
<p>学习中。。。。</p>
weizhong
发表于 2007-4-18 01:44:00
<p>使用材料：H=Ta2O5和L=SiO2,控制波長550nm,膜系初始結構為H3L(高折射材料一個極值，低折射率材料3個極值），然後使用軟件優化(基板材料為BK7,光纖頭的材料需要查一下，實際設計應使用此材料設計），得到結果為:G/0.92H 3.7L/A，即可得到1550nm單點AR的膜系設計，實際加工需要試驗，另外，我手頭上沒有此方面的資料，論文要寫的漂亮一點還需要寫一些理論方面的東西，你自己去網上找找看，再請教論壇上的高手！</p><p>老GUAN你好，我也是初学者，我想问一下，上面资料的内容，在（H=TA205和L=SI02）中H是指英文中的高吗，L是英文中的低吗？楼主说的R小于2% ，那么R在这里代表什么呢，多谢了</p>
guangang
发表于 2007-4-18 05:47:00
H表示该材料为高折射率材料，Ｌ表示该材料为高折射率材料，Ｒ指的是表面剩余反射！比如ＢＫ７材料，未镀膜的表面反射是４.２％左右，若按照以上设计１５５０ｎｍＡＲ膜的话，表面剩余反射可降低到接近０％（中心波长处）．
healin
发表于 2007-4-19 05:02:00
<p>还可以用非规整膜系。。。</p><p>理论上可以达到0反射</p>