请教（有关离子枪原理）我一直不是很明白
<P>请各位大哥解惑：</P><P>氧离子是正价还是负价？它是被电源电场加速，还是被热电子电离后被轰击拥有了动能，还是被中和电子吸引而具有动能（这里假设是正价）？shincron的离子枪，正极（anodo,大概拼法）电流指什么？surpress current(抑制电流)是什么？</P> <P>氧离子是正价，如果你用的是shincron的Kaufman离子枪（KIS），氧离子是被钨丝（阴极）热电离。然后被栅板电源加速。中和电子是将电子注入离子流以产生近似等离子体。</P><P>Annode一般拼“阳极”，应该是接到栅板（两到三层）的其中一层。应用栅板的离子源（枪）又一个特点，离子电流有一个极限，不可随意调大。而霍尔型离子源离子电流基本与气体流量成比例。supress current可能是与这个有关。</P><P>我们公司有各种先进离子源销售，今后有需要请联系</P><P>电话：021-27977643</P><P>Email：<a href="mailtadvancedvacuum@yahoo.com" target="_blank" >advancedvacuum@yahoo.com</A></P><P>许先生</P> 请教夸夫曼型与霍尔型离子源的区别 <P>栅板是不是离子枪头，就是那个带有许多小圆孔的球面，这个球面是不是阳极的，如果是，刚被电离的氧离子哪来的能量去克服电场做功，那么会被压缩在离子腔里；如果栅板是负极，在腔内可以被电场加速，但是等离子穿过栅板，那么氧离子又会被电场吸引回来，除非距离足够短，来不及使总做功为零。请各位大哥继续指教。</P> <P>Kaufman（夸夫曼）型离子源是由美国宇航局Kaufman教授开发的离子源，其特点是用钨丝（阴极）在离子枪将工艺气体离化成等离子体，而后由栅板系统（一般两层或三层，其中一层是阳极）将等离子体的气体离子抽取加速形成离子束。霍尔离子源其实应该叫做终端霍尔离子源。是由前苏联国防系统开发出来的。在离子腔有一个强大的轴向磁场（阳极），这一磁场一方面将工艺气体等离子化，另一方面将等离子体中的气体离子直接加速喷出形成离子束。霍尔离子源一般还需加一个中和器提供电子中和离子束。</P><P>夸夫曼离子源离子书能级集中，方向性好，但离子电流有极限，用于光学镀膜较多，霍尔离子源离子束能级较分散，也能用于光学镀膜，另外更多应用于耐磨膜，装饰膜等。</P><P>射频（RF）离子源与夸夫曼相近，只是产生等离子体的方式不同，是用射频电源通过石英腔体产生等离子体，从而避免了夸夫曼离子源阴极消耗污染的缺点。</P><P>栅板是一个系统，有两层和三层式，有一个独立的电源系统。以两层为例，一层正极一层负极形成一个轴向抽取系统，负极将等离子体中的气体离子吸引加速进这个抽取系统并排除去。一般这个系统除了抽取离子束外也会自动补偿电子，所以不需要中和器。我不知道为什么shincron还要加一个中和器。</P><P>我在中国真空网（<a href="http://www.chinesevacuum.com" target="_blank" >www.chinesevacuum.com</A>）的论坛上也有一个栏目关于离子源，希望有兴趣的朋友参加去那里讨论。</P> <P>myself,</P><P>你是对的。栅板间距离小到使总功为零。栅板的材料和制造是Kaufman离子源的关键之一。</P> <P>ahcg,</P><P>我没有直接用过莱宝APS离子源。APS前面没有栅板吗？</P> <P>我认为：中和器是中和基片上的离子电荷的，而非离子源本身。</P><P>chincron用离子源需要中和器，而莱宝APS离子源并不需要，它自己能产生中和电子，从离子源发射的是中性的等离子体。</P> 谢谢各位的宝贵见解，我明白了许多。 <P>too 高深啊</P> 我公司可生产栅板
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