gxfdllg 发表于 2012-5-2 18:37:55

镀膜速率太高对膜有什么影响？

镀膜速率太高对膜有怎么样的影响？（一般镀膜材料)本人也知道就是不怎么全面！

dyfdudu 发表于 2012-5-3 18:25:50

每种膜料的速率是不一样的，速率太高或太低会影响膜层的厚度和密度。太高的话膜层密度要低，会有大的颗粒蒸发到镀层上面。

shuangzixing 发表于 2012-5-2 20:31:00

太快膜层太松

guhua530 发表于 2012-5-2 20:32:28

光洁度、膜的密度等

E501559 发表于 2012-5-3 08:25:50

影响膜层的附着力

jasmine131415 发表于 2012-5-3 10:16:49

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gxfdllg 发表于 2012-5-3 17:56:11

guhua530 发表于 2012-5-2 20:32 static/image/common/back.gif
光洁度、膜的密度等

谢谢，但是不够全面，我对致密度、膜的强度、内应力、迁移？？？

dyfdudu 发表于 2012-5-3 18:26:01

每种膜料的速率是不一样的，速率太高或太低会影响膜层的厚度和密度。太高的话膜层密度要低，会有大的颗粒蒸发到镀层上面。

xslaser 发表于 2012-5-4 10:54:48

嗯 速率太高或太低会影响膜层的厚度和密度

飞鸿腾达 发表于 2012-5-4 20:50:34

这个要看什么材料的哈，如高固态的材料，建议束流低一点，高的话，膜的结构很松不紧密，表面光洁度很粗糙，容易膜变，起雾，曲线更会飘逸哈，像MGF2这种融化后成液态的那束流稍微快点，不然料不完全融化，敏感度很强，很难控制。

royyang 发表于 2012-6-26 19:08:21

学习，受教

fql3310 发表于 2012-6-27 21:08:57

还是离子源这块，国产机镀TA2O5 1.5埃每秒（伞型工件），进口机集中型离子源(集中型离子源）0.8埃每秒（APS1104），片子不大直径不到20厘米。分散型离子源APS904，也是伞形工件，0.25埃每秒。
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