swanson 发表于 2012-4-26 17:23:18

SIO2 速率不稳定

请教各位：

    SIO2速率非常不稳定。而且同样的参数，每次做出来的曲线又都不太一样。没有重复性。速率有时开挡板时一下冲到很高，然后电子枪不停的在修正功率，之后就是大幅度的跳跃，要很久才可以稳定。。要么就是一直在设定RATE上上下波动。。正负7的样子。。。一般都是做第一次时很不稳定，但第三次烧SIO2时就会变得稳定。波动也很小。疑惑的是SIO2不是直接升华的吗？为什么第三次才稳定。

同一车只有做SIO2时会不稳定。其他膜料都OK。。

1.修正过PID。。貌似没什么效果

2.晶振没有问题

3.电子枪也没问题

4.光斑试过很多，也都不太理想（主要是重复性差）

请大家帮忙分析下，还有什么地方可能出问题的、

谢谢

buaa_dsw 发表于 2012-4-26 20:56:20

可能是SiO2不够致密，放气，导致沉积速度不稳。尝试使用其他厂家的石英环试试。
BTW：一开始跳很高，说明电流设置不合适，调节一下即可解决。

guhua530 发表于 2012-4-26 22:07:47

是环形坩埚吗

swanson 发表于 2012-4-27 10:32:14

{:6_143:} 自己頂起。。期望更多建議

良哥 发表于 2012-4-27 12:49:00

换个厂家的晶振片试试？

fibercoating 发表于 2012-4-27 14:51:04

晶控是SQC310吗

AR_coating 发表于 2012-5-2 13:01:10

Pre-conditioning the target is very important, make sure it is fully out-gasing.
Try non-PID, try to reduce the power increase rate. During soak2, set your power level slightly lower than the deposition power level.

shuangzixing 发表于 2012-5-2 20:34:20

还有一点就是氧化硅要平整不要有坑洼。速率不稳设定好蒸发功率。是不是太高了

jasmine131415 发表于 2012-5-3 10:25:15

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xxwy 发表于 2012-5-13 21:43:15

情况有点复杂{:6_152:}

laoxianccc 发表于 2013-5-22 20:58:52

{:6_152:}

老城 发表于 2013-6-2 02:08:45

我也是用SIO2 ,,,,我用的还挺稳定的啊。。。你这种情况，我应该是电流设置的不合适，，，扫描，，光斑，，，，请多指教。。。
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