光学产品表面粗糙度的试验
大家好:我在制抛熔石英的表面粗糙度的试验,经过以阻尼布+硅溶胶的配合(双面抛光),抛出来的表面粗糙度没什么变化。请问大家有什么更好的办法?能降低光学产品的表面粗糙度呢? 阻尼布是用来贴在双面抛的磨子上的,另外用的抛光液是硅溶胶。{:6_143:}{:6_143:} 我是初学的 前来学习下希望高手指教 据我了解到的情况:水浴抛光能做到的粗糙度是比较好的。能达到5A 不用水浴,就是普通的抛光我们现在可以做到4A 新手来学习的 普通的抛光液就可以抛光,抛光粉添加不能太浓,压力放轻,转速放慢,都可以加工的4A 表面面粗糙度这个问题总算是解决了,而且在做熔石英的过程,用的还是抛光皮+硅溶胶(碱性会更好),抛出来,其光洁度竟然可以达到0-0,真是出乎我们的预料,呵呵。。 表面粗糙度怎么可以是0呢? ds1234567 发表于 2011-10-18 16:05 static/image/common/back.gif表面粗糙度怎么可以是0呢?
我说的是 “光洁度竟然可以达到0-0” 光学产品现在目前可以做到3A了 光洁度也不能是0,你说的是不是光学零件表面疵病啊.
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