xiao2000 发表于 2003-11-11 22:07:00

初级菜鸟请教大侠们一个问题

真空度在几Pa就应该可以了。

xyqy 发表于 2003-11-13 04:42:00

初级菜鸟请教大侠们一个问题

下面引用由lavajydm在 2003/11/08 10:50pm 发表的内容：
好久没来了！我先顶一下！兄弟要多多的看书啊！薄膜科学与技术手册 很好的！你去借！很专业的书籍！

不错，好多教材或资料上都有说到的。找本镀膜书看一看啊，上面有很多这方面的东东。

eagle1 发表于 2004-4-5 06:32:00

<P>PECVD is Plasma Enhenced CVD Deposition method. So this method is quite different from E-Beam deposition system. If you deposit materials like SiO2, the vacuum is not enough, but if can not reach even high vacuum, 5E-1Pa is ok la. Remember: the depostion pressure in chamber is about several tens mT or even more than one hundred mT. </P><P>1 atm=750T=750000mT=1E+5Pa</P>

likeoe 发表于 2004-4-8 19:06:00

PECVD可以做低压或常压的，我以前做的就是一个机械泵，还没用扩散泵呢。
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