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IAD、IBS、E-beam镀膜技术有何优缺点,烦请高人指点。

 火... [复制链接]
发表于 2009-5-26 09:23:35 | 显示全部楼层 |阅读模式
光学镀膜常用到这几种镀膜方式,请高人指点下技术上的优劣,还有不懂技术对镀膜材料是不是也有要求呢?
发表于 2009-5-26 10:14:08 | 显示全部楼层
IBS>IAD>EB-G
此大于号为优于的意思
 楼主| 发表于 2009-5-26 11:00:31 | 显示全部楼层
IBS>IAD>EB-G
此大于号为优于的意思
zzzz 发表于 2009-5-26 10:14

多谢回复,能否说的更详细点。
在薄膜的性质上有哪些体现呢?
 楼主| 发表于 2009-5-26 20:31:51 | 显示全部楼层
高人都哪儿去了?来指点下。。
 楼主| 发表于 2009-5-27 14:15:52 | 显示全部楼层
继续顶贴,等待高人来解答
发表于 2009-5-27 20:42:25 | 显示全部楼层
无聊的问题。
 楼主| 发表于 2009-5-27 21:15:25 | 显示全部楼层
无聊的问题。
jhxxmlhk 发表于 2009-5-27 20:42

想来阁下对这个问题是非常清楚了,还请不啬赐教!!!
发表于 2009-5-28 07:21:29 | 显示全部楼层
IAD是主流。其它比较少。
发表于 2009-6-4 18:45:05 | 显示全部楼层
EG和IAD本身成膜方式还属于蒸发,材料分子(原子)获得的能量上,EG最低,导致膜层致密度不高,散射和吸收损耗大,IAD辅助成膜,蒸发材料获能量要高,成膜质量要较EG好的多(当然,与所用的离子源种类也有关),是目前光学薄膜领域的主流制备方法,IBS(IBSD)在成膜方式上属于动量传递,与前面两者有根本不同,较前两者,材料分子获得的能量更大,所以成膜质量要更好,硬度和光滑度更好,主要用于目前高端的,要求极低损耗的激光膜等,相对而言,IBS制备方法,沉积速率要较前两者低许多,造价更高,但可控性,精切性要好。
发表于 2009-6-5 15:58:59 | 显示全部楼层
楼上回复的太经典了!不过镀膜过程还是要靠人来完成,有经验的技术人员还是能补机器的缺点的!
发表于 2011-7-30 16:03:33 | 显示全部楼层
人与机器都重要
发表于 2011-10-3 00:29:48 | 显示全部楼层
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