IR 镀膜，，SI2O 速度一般使用多少啊

ren619 · 发表于 2009-4-14 18:15:23

SI2O 速度一般使用多少啊

ren619 · 发表于 2009-4-15 11:37:08

以前用 0.2nm/s,,现在用0.12nm/s 光洁度有没有影响啊，IR镀膜，无离子源，sio2 ，规格2*2t

tails3582 · 发表于 2009-4-15 15:27:26

这么慢，有竞争力么？

lunik · 发表于 2009-4-15 15:35:36

呵呵。是好慢呀。不知道是否是写错了

ZHJ7239 · 发表于 2009-4-17 23:57:47

SIO2速度 0.7-0.8nm/S

zzh1011 · 发表于 2009-4-18 00:45:44

是好慢呀!最小也要有0.5

xiu0214 · 发表于 2009-4-18 16:50:23

一般設定4-6 但太慢或太快則膜附著力不好

999520 · 发表于 2009-4-18 19:33:28

0.8到1.0左右，太慢膜层不牢！

ren619 · 发表于 2009-4-19 10:29:38

不好意思写错了以前 2nm/s 现在 1.2nm

随风2008 · 发表于 2009-4-20 20:55:43

1nm/s+离子源

jhxxmlhk · 发表于 2009-4-21 14:02:29

25埃/秒，有IAD更好。

IR 镀膜 ，，SI2O 速度 一般使用多少 啊