设备重复性不好,多是由什么原因引起的?

ferry

有1100的机器,现在做单层TiO2膜时,重复性不好(峰值680时,每次偏差都在20-30,峰值为700-710),不知到底是何原因,请各位高人指点一二,你认为,设备的重复性不好,多半是由什么原因引起的呢?

ferry

原帖由 章钱国 于 2008-10-17 21:59 发表
你们那里要镀膜工程师吗，如果有需求的话，可以联系我啊，我的电话j15059236473

呵呵,你来了,我就下岗了.

angel315

若是每次都有20-30的偏差 那好办,可能是膜料的折射率有偏差, 或是晶控需校正, 或者直接镀薄点就可以了.

ferry

原帖由 angel315 于 2008-10-8 19:03 发表
若是每次都有20-30的偏差 那好办,可能是膜料的折射率有偏差, 或是晶控需校正, 或者直接镀薄点就可以了.

每次工艺实验时,参数设置都是一样的.
晶控更换了新的,问题依旧
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不知膜料的折射率由工艺引起的偏差能有多大?
在同样机型的另一机器上,同样的配置和工艺,重复性却比之好许多.
呵呵,直接镀薄点,要是需要镀较厚时,那又该怎么办啊?

tfc

先说说你的机器什么牌？主要情况？
特别国产机原因是非常多的。
你是怎么控制？
两机器不同，比较了透、反射率吗？
总之，越详细的描述，越易找问题。

qjy

哎呀！怎么门里拿不进去扁担了呀！按照比例算一下就完了嘛！你说的问题是所有镀膜的都天天遇到的问题，所以说根本就不是问题

ferry

原帖由 tfc 于 2008-10-9 15:34 发表
先说说你的机器什么牌？主要情况？
特别国产机原因是非常多的。
你是怎么控制？
两机器不同，比较了透、反射率吗？
总之，越详细的描述，越易找问题。

先说声谢谢!
机器是南光的,现在还在调试过程中.
电子枪为双枪,晶控为MDC360双探头.
做设备重复性实验时,采用晶控,出现的问题主要是:晶控中设定同样的沉积速率时,电子枪的束流每次都会有有所偏差,其他元件显示都还正常.
有光控国产的,对单层,不太信任其精度,还没有用过,

cikelong2000

可以有机会看看我们公司的全自动光控系统和宽光谱光控的介绍呀，对于重复性保障比较大，可以登陆ＷＷＷ．ＢＴＯＥ．ＣＯＭ．ＣＮ看看

cikelong2000

我的联系方式１３６９３５７２８９２，xlli@goldway.com.cn

huang12949

大哥，就算是同一样的机型，同一个膜系要求，每台机的数层基本上是不一样的．要以机为本，可不能以人为本！

ferry

原帖由 qjy 于 2008-10-9 16:27 发表
哎呀！怎么门里拿不进去扁担了呀！按照比例算一下就完了嘛！你说的问题是所有镀膜的都天天遇到的问题，所以说根本就不是问题

老兄,我都认出你来了,你不知道我是谁啊,晕!

ferry

原帖由 huang12949 于 2008-10-9 17:51 发表
大哥，就算是同一样的机型，同一个膜系要求，每台机的数层基本上是不一样的．要以机为本，可不能以人为本！

没错,我也赞成以机为本
机器尚处验收阶段,当初定合同时,可是根据自家产品的精度要求提了这样的指标,
相对来讲,我的指标已经不算高了,而且据厂家讲,他们以前的设备重复性全都可以满足我现在提的指标要求的.
现在的情况看,不是系统公差的问题.

tfc

是现代南光吗？
猜测：1。晶控探头的位置偏高。2。把电子枪扫描停住试。3。探头振动。4。本底真空低，每次不同。5。设备漏率偏大。6。晶控受干扰。