问个浅显的问题,真空室越大(高),相对而言是不是膜厚均匀性越好啊?

zinuo00a · 发表于 2007-9-14 20:42:27

真空室越大,均匀性越不易控制.

flytiger8 · 发表于 2007-12-14 21:42:16

大家的见解有点不同啊

richjieyu · 发表于 2008-2-14 16:54:50

影响膜均匀性的是真空度，真空室会影响真空度，真空室的大小都是经典的，像600~800~1100~1300~1500都是根据不同需要选择的！真空室的太大，真空度的均匀性不好检测，而且膜料在真空室的均匀分布不好控制和监测，选择合适大小的真空室的便可以！

love_cs · 发表于 2008-2-15 10:20:43

越大均匀性越差，和基片大小，发射特性等有关，很复杂的一个问题。

love_cs · 发表于 2008-2-15 10:22:23

原帖由 ferry 于 2007-8-30 22:32 发表
但是在奥普康的某型号中有这样的说法:
3、真空室内腔尺寸：φ1100mm×1400mm；
★注：我们把真空室的内腔高度由1100mm改为1400mm，极大地提高了蒸镀膜系的均匀性和离子源能量作用的均匀性，提高膜层 ...

这个应该是可以算出来的，可以让他们提供数据看看

tfc · 发表于 2008-2-17 10:13:53

同等大的腔体，提高高度有利于均匀性，不利于牢固性，折射率也相对低点。
同等高度，扩大腔体，均匀性变差。

dongbeiren · 发表于 2008-3-29 08:10:06

我的观点是,真空室高度越大,在同等条件下,膜层的均匀性就越好,因为膜的均匀性与蒸发距离的平方是成反比的,但是材料(镀膜膜料)的利用率低,成本高些,另外,真空室高度高,相对容积大,抽真空的速度慢些.
以上,供您参考一下子咯.

qx__wei · 发表于 2008-6-5 17:43:55

我用2050的机器，均匀性很难调，真空室越大均匀性越不好控制，mask的形状在这里是尤为关键，很难做到很好。另外机器越大转架越大，转架基本都是分体的，每次喷砂后重新安装时，对称，和变形的消除都是很难的，曲线也会产生差异

nation · 发表于 2008-7-1 03:30:12

真空窒的大小和均匀性的关系镀膜厂家不用去考虑，而是生产设备厂家去想办法解决

设备厂家将设备做好了，均匀性才好，做差了，均匀性就差。

gxbm · 发表于 2008-7-3 17:20:46

原帖由 tfc 于 2008-2-17 10:13 发表
同等大的腔体，提高高度有利于均匀性，不利于牢固性，折射率也相对低点。
同等高度，扩大腔体，均匀性变差。

还是不大不小的好啊

tfc · 发表于 2008-7-4 10:18:30

原帖由 nation 于 2008-7-1 03:30 发表
真空窒的大小和均匀性的关系镀膜厂家不用去考虑，而是生产设备厂家去想办法解决

设备厂家将设备做好了，均匀性才好，做差了，均匀性就差。

你发现国内哪个设备厂家解决了均匀性问题?好象母猪不会上树吧?

镀膜加游戏 · 发表于 2008-7-4 11:14:14

反之~~~~~~~~~~~~~~~ ~~~~~~~~~~~~~