2007-2-4 06:44:00 | 显示全部楼层 | 阅读模式

LD端面泵浦在晶体上做激光,晶体的泵浦端是镀的高反薄膜,由于搭得是短直线腔,在调节过程中发现泵浦光的焦点正好打在晶体端面的高反射膜上时,泵浦光和腔膜耦合的最好,输出功率最大,但是,泵浦光的焦点打在膜上,害怕把高反膜打坏啊,很郁闷,不敢加泵浦功率啊,谁有这方面的经验啊?指点一下,一般象晶体端面的高反膜损伤阈值是多少啊?很急啊,完不成任务了!!哪位大侠帮帮忙!!

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2007-2-6 00:08:00

不同泵浦功率下,焦点打在晶体内的最佳位置应该是变化的,故你增大泵浦功率也许会

导致最佳位置不在晶体端面而在内部某处。

另外你的焦点光斑多大,放大光斑也许会安全些。

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2007-2-6 17:18:00
最好改一下谐振腔的设计,使光腰在端面,这样吸收最好,而焦点光班在其他位置。
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2007-2-6 17:29:00
楼上,焦点光斑直径200微米,功率大约20W左右,连续泵浦的,有这方面的经验吗?会不会有问题呢?
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2007-2-6 17:54:00

你的焦点光斑好小啊……

你的晶体多大多长?浓度呢?输入镜输出镜的曲率?

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2007-3-14 03:27:00

光斑太小了!!,,,

一般都要偏前些!!!!

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