最近刚刚开始真空热蒸镀金属膜,用的是钽舟和氮化硼束源坩埚,膜厚监测用的是台湾产的频率计。
现在小弟在蒸镀Al的过程中出现了很多问题,请各位高手指明:
1.频率计上的晶振片频率显示变化很大,即使在没有加热蒸镀源的时候也会有微小的变化,尤其在蒸镀过程中频率的显示很不稳定,只有到1000多度以上的时候才会相对正常的频率下降;
2.根据晶振片频率变化和膜厚的关系式算出来的数值约为每400个晶振点的下降对应2微米,不知道这个结果是否正确;
3.如何将蒸镀出来的金属膜控制在100nm一下,并且蒸镀速率控制在零点几个到几个A之间;此外挡板开启时间等蒸镀过程中需要注意的地方有哪些;
4.如果可以的话,麻烦达人介绍一下详细的热蒸镀金属膜的操作过程和注意的细节
现在这儿多谢了!!!!!
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这个问题可从以下几点来说:
1:膜厚的问题:各镀膜机型其各种参数不一样,膜厚仪显示的膜厚与所堵材料的密度.声阻抗.晶振片接收信号的工具因子等有关,要通过换算才能确定所镀膜厚的设定值;
2:镀金属膜应用冷基态,不应加热;
3:在打开挡板前,应将膜料熔化完,然后再打开挡板,直到所设定的厚度.
不妨试试
多些楼上赐教!
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