求助：离子辅助蒸发成膜有点，急呀!

fulong927 · 发表于 2005-12-16 17:59:00

近镀YAG晶体，采用的是离子辅助蒸发的方法，牢固度，光学特性都很好，但是发现表面又很多点。不用离子源就会好狠多，不是何原因？我用的时考夫曼源，能量在200V以下，应该不算高。请各位大虾指教。

chz321 · 发表于 2005-12-17 00:48:00

离子源的问题，可能是离子源打火引起的点子，

宇轩 · 发表于 2005-12-17 05:23:00

打火是会造成这样的现象，不过你也要考虑一下膜料的喷溅，真空室的卫生等

fulong927 · 发表于 2005-12-25 21:22:00

请问楼上，我用的是ZrO2和SiO2，这两种料容易喷溅吗？

sanma · 发表于 2005-12-26 03:57:00

以上说的有道理，离子源稳定的情况下，应该不会产生点子，我觉得最大可能是机台脏和膜料的点子，ZRO2易产生点子

zzzz · 发表于 2005-12-26 21:31:00

楼主不是说了不用离子源会好很多吗?

那多是离子源打火了.

可以考虑清洁离子源

kuan · 发表于 2005-12-28 23:57:00

离子源放电造成的

cityu · 发表于 2006-4-6 18:30:00

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lunik · 发表于 2006-4-7 21:15:00

应该是离子源把ZrO2的一些小颗粒加速到基片上了，就会出现白点！还可能是真空室内太脏了！

laoxianccc · 发表于 2013-4-27 13:25:24

ghtzna · 发表于 2013-4-27 16:16:19

当时的环境一样么

新手求教 · 发表于 2013-4-28 11:11:37

求助：离子辅助蒸发成膜有点，急呀!

[原创]要做以下斑点分析！！

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