悬赏问答
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悬赏 元光电贝
  提问于 2005-9-20 23:19:00
双面镀膜
S1:R≤0.2%@1064nm;T>80%@650nm
    45度入射
S2:R≤0.5%@1064nm;T>80%@650nm;R>98%@532nm
   45度入射
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2279查看8回复

2005-9-21 15:54:00
应该不会太难了
优化一下即可
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2005-9-21 16:04:00
我问了三个高手,都说很难做。
莫非ZZ兄弟乃神人也???
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2005-9-21 16:24:00
算是可以,做起来只能说看工艺水平了.
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2005-9-22 20:39:00
恩,不是很难做,修正一下次峰
[此贴子已经被作者于2005-9-22 12:42:37编辑过]

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2005-10-7 21:19:00

s1面还可以,S2面应该难吧,增透膜做到R<0.5%当然没问题,但还要532NM高反的情况做1064NMR<0.5%我想很难,设计上当然没问题,可做起来很难哦

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2005-10-7 22:45:00

是啊,主要是能不能做的出来,

设计出来并不一定能镀的出来啊

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2005-10-10 23:19:00

这个基片和膜料都是什么啊 那位大大牛能告诉我一下么 还有就是俺刚毕业 用TFC怎么修改次峰啊

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2005-10-25 21:13:00
是要你做还是要你设计呀,基底和膜料选了吗?你哪个学校的?
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