2005-7-14 03:07:00 | 显示全部楼层 | 阅读模式
如何稳定SiO2的蒸发速率,有无用块状材料的兄弟,给点经验吧。
我遇到一个情况,用块状料材料反射电子打在坩埚边缘,导致束流不能加得太大,
如何解决哦?请问蒸SiO2的电子枪高压一般为多少?俺的Email:yako_chen@163.com
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2005-7-14 05:11:00
一般为8KV
电子枪扫描到边缘,考虑调节X。Y方向的偏移量啊,将光斑缩小一点。
调整预熔参数,各个机器不同,应做实验,达到最佳
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2005-7-14 06:21:00
SiO2束流不用调至很大,蒸镀速率在较低的束流下就已经够用了!
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2005-7-14 16:07:00
二次电子肯定有的,做个屏蔽板将其导走就是.
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2005-7-15 01:02:00
束流能到多少,哪的电子枪~~~~~~~~~~~~~~
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2005-7-18 01:13:00
2楼的朋友说得对,另补充点sio2光斑初时打在坩埚不易聚焦,致使SHUTTER OPEN 后RATE没上升而power猛加,可以延长下蒸镀参数shutter delay time。
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