2005-3-4 05:46:00 | 显示全部楼层 | 阅读模式

我们镀ITO时,发现膜面有点状污染,显微镜看上去象烧焦的一样.玻璃基板上没有类似污染,做过只镀SIO2和ITO实验,仍存在.可打开镀膜腔体并无异常.为何抛光玻璃会有这种情况呢?那位前辈可以指导一下,具体的情况可以给我留言,谢谢!

主题回复
倒序浏览

2436查看5回复

2005-3-4 06:20:00
  最近我们提高了溅射电压由原来的10kwh,提高到了现在的12kwh,有没有可能是这个原因导致的呢?请大虾指教!!
举报 回复
2005-3-6 01:28:00

功率提升了,但是靶材表面的潔淨度,平坦度會造成電漿穩定與否.看看在點然電漿時是否有Arcing產生

举报 回复
2005-3-6 05:37:00

因为一直怀疑是nodule较多,我们的靶材保养时都打磨,应该较清洁,也比较平坦.

如果arcing的话,应该不能溅射.

还有玻璃基板上有很多的亮白点,不知道是什么原因.显微镜看上去有很亮,怀疑膜厚较厚.准备用膜厚机测看看大概高多少?

谢谢vacuum0714.期待更多帮助

举报 回复
2005-3-7 03:57:00
不知你有没有对靶进行预贱射,或者因为电压过高电荷积累过多造成打弧
举报 回复
2005-3-7 17:48:00

谢谢cjjiang的帮助.我们SI靶不预溅射.这种污染是随着一次保养之后越来越多,应该不是这个问题.

至于电压过高电荷积累过多造成打弧,我做了降低电压的测试,好象也存在的,

举报 回复
发新帖
您需要登录后才可以回帖 登录 | 注册

本版积分规则