如题，双枪蒸镀系统，但两把枪蒸发同种材料，分别做单层膜试验，光控波长相同，都走1/4波长，镀膜后的测试结果中心波长不同，甚至差别很大（100nm）。
请问大家是不是也有同样的现象，除了修正两个枪的挡板以外，还有没什么其他的方法可以使得两把枪在相同的光控波长下，镀膜测试波长（即镀膜厚度）一致？
另外，以前也提过一个有关不同蒸发状态的材料（比如SiO2,Ti3O5）,用同一把枪和同一块蒸发挡板可否同时实现较好的均匀性。
以上两个问题，请有任何想法的朋友不吝赐教，大家多多交流，也许就会有的办法解决各种问题。多谢。
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单层膜容易有误差,建议多做几层,如果是光控的话,又是相同点,理论上不会有误差!
基本上每種材料的蒸發範圍不同
所以均勻性的分部情形也不同
如需多種材料蒸鍍 需將傘差大的材料另做處理
如改善mask位置或升降方式
单枪单Mask可以得到良好地均匀性！不知您做的膜系有多少层！用的哪里地枪，哪里的设备？均匀性要求多少？
楼上的朋友，如果我的膜系有四种材料呢？四种材料的蒸发特性不尽相同呢？单枪单mask可以实现良好的均匀性吗？
国产南光设备，随机自带电子枪，均匀性要求1%以内
调整工件转转速试试
单GUN但MASK要做到1%有点难度，主要调整MASK。
双枪，单mask，厚度是不均匀。收到没mask侧的蒸发源影响。建议增加为双活动mask！
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