2004-10-26 21:35:00 | 显示全部楼层 | 阅读模式
请问要在InP基片上用电子枪蒸镀出反射率90%和95%的介质膜,现有Al2O3,Si,SiO2和TiO2四种材料,要求8层以下,最好4-6层,我应该怎样选择材料和排系?谢谢高手大哥大姐了。
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2004-10-27 00:00:00
有谁能帮忙回答一下?万分感谢!!
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2004-10-29 00:29:00
InP基片的折射率多少?
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2004-11-1 21:51:00
InP基片的折射率为3.2,谢谢!波长在1310nm正负50的宽度。
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2004-11-5 00:28:00
使用TIO2 各 SIO2交替镀试试看
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2004-11-5 23:57:00
如果你镀Si没问题的话,可以考虑下Si和SiO2:(HL)^2 @1310nm
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2004-11-10 21:45:00

谢谢!90%的膜我已经用Al2O3和Si :(LH)*2实现

请教95%以上的膜系,材料和条件还是1楼说的那些。反射率越高越好,谢谢帮忙!

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2004-11-11 06:35:00

请问如何镀si,我用过si,折射率很低,在2.6左右,镀时有时还会爆炸,溅得满真空室都是

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2004-11-12 22:03:00
si的折射率是3.4啊,镀的时候先充分预熔,根据电子枪的功率加适量的si,不要加的太多,就不会爆了.
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2004-11-12 23:09:00
既然你可以把Si镀在最外面,你用Sio2和Si: (LH)^3应该99% 左右。 用Al2o3和Si,(LH)^3反射率虽然低些,但应该也能满足你的要求呀。
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