真空溅射镀膜

遗忘的回忆

真空溅射镀膜
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真空技术及应用系列讲座 第十九讲 真空溅射镀膜.pdf (138.61 KB, 下载次数: 6)

2015-7-12 22:27 上传

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作　　者：张以忱
机构地区：东北大学,辽宁沈阳110004
出　　处：《真空》 2014年第51卷第6期 79-80页,共2页
Vacuum
摘　　要：靶-基距对沉积速率有很大影响，图19给出了S-枪靶的靶基距对沉积速率的影响。从图中可见，随着靶基距的增加，沉积速率呈双曲线状下降。沉积速率随靶-基距的增加而下降是由于靶材粒子在迁移过程中的散射效应引起的。为了提高薄膜的沉积速率，可在保证阴极靶稳定放电和统筹考虑保证膜层厚度均匀性的前提下，尽量减小靶一基距，一般靶基距的最小值为5～7cm。
关键词：溅射镀膜 沉积速率 真空技术 曲线状 靶材 磁控溅射 迁移过程 厚度均匀性 反应溅射 工作气体

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