抛光讨论

yljfeng · 发表于 2004-10-15 20:12:00

“研磨盘在下，工件在上”与“工件在下，研磨盘在上”两种研磨（抛光）方式，抛磨以后的指标有什么区别吗？比如光洁度、面形…………

laowupo · 发表于 2004-10-15 21:36:00

切削量有关系，光洁度有些差异。不同的加工方式有不同的控制方法。

yljfeng · 发表于 2004-10-19 01:03:00

以下是引用laowupo在2004-10-15 13:36:10的发言：

切削量有关系，光洁度有些差异。不同的加工方式有不同的控制方法。

切削量哪一种更大一些呢？

光洁度哪一种更好一点呢？

z983112 · 发表于 2004-10-19 03:06:00

这是各有所长，有的时候同一零件也要采用这两种加工方法。

icewater · 发表于 2004-10-25 21:20:00

抛光过程中，研具与工件的相对位置应该不是主要因素

压力、抛光液、抛光设备本身的一些特性（如振动）以及抛光轨迹等才是影响抛光质量与效率的主要因素

各位认为如何

bigsofty · 发表于 2004-12-7 19:29:00

在上和在下和切削量有关同时和你所要修改的光圈类型有关。看你是想得到那种光圈了。

yixiaomao173 · 发表于 2004-12-8 03:51:00

能不能談具體點？謝謝了！！！

harber · 发表于 2004-12-8 04:04:00

镜盘在上时，易抛成凹凸圈，但玻璃好象易出道子；

镜盘在下时，易抛成凸圈。

抛光时可以跟据你的光圈来决定、也可以来回翻光圈，很快就把玻璃抛亮了、

可以随时与大家交流！

cjx · 发表于 2004-12-8 19:00:00

镜盘在上和

镜盘在下是相对的，还要考虑你的抛光盘，光洁度与抛光材料和辅料有关，

bigsofty · 发表于 2004-12-8 19:04:00

楼上说的很对，不过应该是高光圈或低光圈。

cjx · 发表于 2004-12-8 19:07:00

高光圈或低光圈。的定义太小，你说呢

01111chen · 发表于 2004-12-9 02:27:00

在上和在下不关光圈的事吧。要修凹凸圈，改摆服最快了