晶体表面存在均匀的垂直的线条是什么？附图~

风心 · 发表于 2012-10-18 16:27:51

这个是怎么产生的呢？叫什么？如何克服？

landary · 发表于 2012-10-21 21:08:07

xiaominhao520 · 发表于 2012-10-22 09:39:32

mumu4273 · 发表于 2012-10-23 07:10:20

可能和原料中Si含量过高有关

风心 · 发表于 2012-10-23 13:38:59

mumu4273 发表于 2012-10-23 07:10
可能和原料中Si含量过高有关

和杂质有关？
难道不是温场梯度大造成的么？

JZM · 发表于 2012-10-23 21:47:17

扩肩速度有些快引起的

mumu4273 · 发表于 2012-10-24 12:43:23

风心发表于 2012-10-23 13:38
和杂质有关？
难道不是温场梯度大造成的么？

径向温度梯度大可能会导致放肩速度过大，进而出现镶嵌线，但镶嵌线形态有别于你图片中的线条。你们用的是什么原料，哪家的？

高佑君 · 发表于 2012-10-24 12:51:35

把晶节亮出来，就应该知道了

风心 · 发表于 2012-10-25 08:02:56

高佑君发表于 2012-10-24 12:51
把晶节亮出来，就应该知道了

什么算晶界，镶嵌线？我们的晶体没有斜线，全是均匀的线条。

风心 · 发表于 2012-10-25 08:24:34

mumu4273 发表于 2012-10-24 12:43
径向温度梯度大可能会导致放肩速度过大，进而出现镶嵌线，但镶嵌线形态有别于你图片中的线条。你们用的是 ...

C面

放肩时在四个方向倒有一定的疤痕，类似单晶硅的四条棱线，镶嵌线是斜的，我们晶体的线是均匀辐射状的。

风心 · 发表于 2012-10-25 08:27:24

JZM 发表于 2012-10-23 21:47
扩肩速度有些快引起的

放肩50小时不算太快吧。。。rubicon的放肩时间不是很短的么，而且肩很平，为什么没有呢。另外不止是放肩，等径部分也有均匀棱线。

高佑君 · 发表于 2012-10-25 11:28:31

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