中心波长漂移问题

dreamwithin · 发表于 2012-4-13 23:26:31

请教一个常见的问题，公司两台镀膜机，主要镀制窄带滤光镜。在准确测定材料Tooling后，镀膜结果总是难以稳定且发生偏移，长波偏一段时间，短波又偏一段时间，重新测定Tooling时，发现发生了变化。机器每次的工作条件都相同，包括光斑位置都相同，材料平面高度也相同，修正挡板位置也没发生变化，不知这种现象如何引起的。

测定材料厚度和折射率所用的仪器是Filmetrics公司的F20-UVX，同时测定薄膜厚度和折射率。每次发生偏移后，重新测定材料时，发现折射率基本没什么变化，厚度却发生了变化，有时很小，有时变化则大，在没有改动Tooling的情况下。

也不知道这种问题是如何引起的，能考虑的问题都考虑了，问题依旧。就SiO2而言，连续一个月的观察和测试结果如下：设备调试好后测定SiO2的Tooling为96.4，几天后发现产品波长偏移，重新测定SiO2的Tooling变化为99.3，之后一个月内的变化是102.9，104.1，100.4，97.3。。。。。。总之，厚度很不稳定。晶控仪无故障，探头水冷正常，独立循环水，恒温26摄氏度。每次测定折射率基本无变化，只是厚度变化了。设备清洁保持很好，一天换一次，电子枪打扫也很干净，灯丝位置一致，光斑恒定，探头清洁也很好，每次换晶片都打扫。

请问大家知道这种问题的根源在哪里吗。

tfc · 发表于 2012-4-14 07:53:53

什么机器，你的机器有没有冷热水切换？

强子 · 发表于 2012-4-14 10:00:19

开镀真空是否一致？O2是否一样？如一样，建议换一家晶振片试试。QQ：2860598589

dreamwithin · 发表于 2012-4-14 11:09:30

设备是成都真空机械厂的，充气装置为压控和流量计两路，冷热水切换没有。无论使用流量计还是压控仪，结果都这样，镀膜时，每次本底真空都相同，充氧至2.0E-2，真空稳定，晶振片是JJK的。关键问题在于，每次测定后，能够稳定一段时间，之后就变化了，再测，再稳定，之后又变。

WENJINGREN · 发表于 2012-4-14 11:30:26

药品需要予熔吗。

dreamwithin · 发表于 2012-4-14 12:06:24

有预熔，且初始装料都分层预熔，严格得很的

tfc · 发表于 2012-4-14 14:05:27

用的冷阴极还是热阴极？镀膜起始真空是多少？

ZHJ7239 · 发表于 2012-4-14 17:27:56

影响波长的原因很多，比如环境温度，湿度，抽速，真空规管等等.....

idandie · 发表于 2012-4-15 21:29:40

路过学习学习，是个好习惯

魅力薄膜 · 发表于 2012-4-22 10:48:23

新手回答，仅供参考：第一，由于是国产的扩散泵，所以他的抽速不稳定。第二，真空规管是否定期更换，维护，使真空测量不准确。第三，压控仪是否稳定。建议：记录开始开机械泵的时间到镀膜结束的时间，看真空的变化时候明显。

查水表的 · 发表于 2012-4-25 12:58:24

新手来看看。

heliangliu · 发表于 2012-4-27 05:25:07

我是新手,但从你的描述上看, 应该是每层的厚度变化最总导致你波长的变化. 所以你就做一段时间的厚度监控和反馈.看看到底是由什么引起的.

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