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北京镨玛泰克提供阳极膜离子源,平面弧,以及高利用率溅射靶,阳极膜离子源是我们公司在国内技术领先的产品
,其性能如下:阳极膜离子源产生的低能量、大束流的离子束可以有效去除基片表面的有机污染物和氧化层，增加薄膜的附着力，同时避免对基片轰击时造成损伤（如平板显示器镀膜、柔性基材镀膜）。由于阳极膜离子源无需灯丝、空心阴极等电子中和器而且水冷完全，所以其对镀膜环境的温度改变很小，这个特性对温度敏感基片的镀膜非常有利。同样理由，没有电子中和器使其可以长时间免维护工作。阳极膜离子源的结构和材料组成使得其可以完全适应绝大部分反应气体，如氮气、氧气和甲烷等。
IV. 基本特性参数
项目 聚焦模式 散焦模式
离子源体外形尺寸 540mm×145mm×45mm
最大放电电压 2000V <500V
最大放电电流 150 mA <0.5A
离子能量 > 1000eV <100eV
离子束均匀区 在直线放电沟道范围内> 90%
工作气压 3×10-2 – 1.5×10-1 Pa 3.5×10-1 –5×10-1Pa
气体流量
(质量流量计) 0－100 sccm
适应气体 Ar, N2, O2, CxHx 等
最高烘烤温度 100℃
冷却水压差 2.5 Kg/cm2 < P < 4 Kg/cm2
冷却水进口温度 <25℃
冷却水阻抗 50KΩ/M
冷却水管道 φ6×1mm 尼龙增强管
供气管道 φ6×1mm 尼龙增强管
系统抽速 > 3000 升/秒
V. 典型应用
 直接沉积类金刚石薄膜
 氧化物、氮化物和碳化物的辅助镀膜
 表面清洗
 表面氧化层的去除
 织物表面处理
 化学气象沉积辅助
 表面物理化学改性
阳极膜离子源可以用来有效去除基片表面吸附的水分子和碳氢污染从而提高薄膜的附着力，同时可增加薄膜的密度，控制薄膜成分，在精密光学、MEMS 器件、半导体、微电子、装饰薄膜、摩擦磨损薄膜等领域有着广泛的应用。
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发表于 2012-3-22 11:44:40
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