氧化锆镀膜产生雾状求解

shuangzixing · 发表于 2012-2-28 11:53:53

国产机器镀氧化锆和氧化硅现在发现有白雾状（很均匀一层细细的也可理解试细点子）速率2.5 充氧温度180° 基本确定是氧化锆产生的。不知道啥原因。厚度越厚越容易看出求解。谢谢

HGcoating · 发表于 2012-2-28 16:03:13

速率提高点，充氧量降低试试看

shuangzixing · 发表于 2012-2-28 19:51:41

提高速率会更加产生雾状吗。你们镀膜后有没发现此类问题。谢谢

shuangzixing · 发表于 2012-2-28 19:52:10

提高速率会更加产生雾状吗。你们镀膜后有没发现此类问题。谢谢

想夜的雨 · 发表于 2012-2-28 22:52:27

二氧化锆还原时氧气不足造成的，提高氧气量

shuangzixing · 发表于 2012-3-2 18:06:56

好。我试试那你们氧化锆充氧量达到多少真空度.我们充氧后高真空到1*10-2

shuangzixing · 发表于 2012-3-2 18:08:42

想夜的雨发表于 2012-2-28 22:52
二氧化锆还原时氧气不足造成的，提高氧气量

你好。我们充氧后高真空在1*10-2.你们多少。可有的地方是不充氧的。

想夜的雨 · 发表于 2012-3-3 22:36:51

充氧后真空度维持在1.00*10-4T左右就可以了

shuangzixing · 发表于 2012-3-5 20:55:48

1*10-4高真空那不是没有冲氧进去啊

三月 · 发表于 2012-3-5 21:34:03

你的基片是什么，我们不充氧的，冷井好不好？

想夜的雨 · 发表于 2012-3-5 23:13:55

用压强控制仪可以的

shuangzixing · 发表于 2012-3-6 19:41:39

基片是K9 冷井好的。我们也有压强压控仪的基本在1*10-2

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