查看: 5648|回复: 7

[讨论] tooling测算时的曲线问题

 火... [复制链接]
发表于 2011-11-24 15:23:59 | 显示全部楼层 |阅读模式
我最近在测量SiO2与Al2O3在石英玻璃基底上的tooling值。
SiO2在石英玻璃上镀膜后,走2个极值的时候,扫描出的曲线几乎为一直线。但走3个极值的时候,扫描出的曲线却又有起伏,这是为什么啊?
从TFC上模拟,根本模拟不出走2个极值时的曲线嘛,除非厚度在0.4个极值以下。
.JPG
另外,下面这张是走3个极值后的曲线,我也有问题,为什么扫描出的曲线起伏明显比TFC模拟的曲线,起伏要小很多?
.JPG
请有经验的弟兄帮我解惑吧,谢谢了。
发表于 2011-11-24 17:11:19 | 显示全部楼层
发表于 2011-11-25 11:10:51 | 显示全部楼层
你镀的膜厚是多少
发表于 2011-11-25 11:10:57 | 显示全部楼层
你镀的膜厚是多少
 楼主| 发表于 2011-11-25 12:33:17 | 显示全部楼层
WENJINGREN 发表于 2011-11-25 11:10
你镀的膜厚是多少

走值分别是2个极值和3个极值,计算出来的厚度,是216nm和325nm。
发表于 2011-11-28 09:36:16 | 显示全部楼层
你模拟的折射率有问题。SIO2和石英玻璃的折射率差值很小,曲线的起伏就很小。测这个你应当找个折射率较高的基板。

点评

同意!  发表于 2013-7-23 23:47
 楼主| 发表于 2011-11-28 13:18:04 | 显示全部楼层
风寒雪月缺 发表于 2011-11-28 09:36
你模拟的折射率有问题。SIO2和石英玻璃的折射率差值很小,曲线的起伏就很小。测这个你应当找个折射率较高的 ...

这是因为我的膜是镀在光纤上的,因此采用了石英玻璃进行试镀。

点评

在抓SIO2的参数时,应该使用高一点的基片,否则误差较大,或者根本就测不了  发表于 2013-7-23 23:47
发表于 2012-1-2 21:52:10 | 显示全部楼层
您需要登录后才可以回帖 登录 | 立即注册

本版积分规则

关注公众号

相关侵权、举报、投诉及建议等,请发 E-mail:admin@discuz.vip

Powered by Discuz! X5.0 Licensed © 2001-2026 Discuz! Team.|鄂ICP备17021725号-1

在本版发帖
关注公众号
QQ客服返回顶部