为什么不用Si作光通信用薄膜的高折射率材料

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薄膜设计上膜料的折射率相差越大, 膜系越简单. 在1200-1700nm范围内, Si的折射率比现在用的高折射材料Ta2O5, TaO2高的多, 为什么不用Si作光通信用薄膜的高折射率材料?

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可能原因：Si不稳定，Si的折射率受氧化程度影响严重，而且Si很容易被氧化。而用于光通信产品的一个重要特征是稳定，化学稳定性要好，温飘要小。