均匀性已经修的很好了，但是……

isfm

我已经把镀膜机均匀性从-15％修到1％左右，但是作出了的薄膜反射律却又不如修之前的低。请教这是怎么回事？如何解决？

zz

各膜层之间的配比变了

isfm

谢谢，2、3楼说的比例因子配比是不是指不同材料在样品盘上膜厚与控制片上的膜厚的比值？如果两个材料的之间的比例因子不是1的话，该怎么办呢？

likeoe

加了挡板以后，H，L层两者的比例会发生变化，因为H，L材料的蒸汽空间分布可能是不同的（用同一块挡板对不同材料修出同样的均匀性效果可能有点难度），另外加了挡板以后也增加了一个起始位置的随机问题（指的是换材料后开始镀时基板所处的位置，有时被挡，有时不被挡），所以综合结果是，反射膜的膜堆是由很多近似的非规整膜堆组合，从而使曲线形状也发生变化，所以加了修正挡板后，如果这种偏差大的话，很难做要求高的长波通，短波通，和偏振片。

isfm

谢谢ahcg 提供的图片，我们正在考虑针对不同材料设计特定修正板。但是，正如likeoe 所说的不同的材料的分布，比如说以控制片上的厚度为标准，zro2的均匀性为－15％，si'o2为－10％，假定修正之后都很好，那么在控制片上镀制HL时，在样品片上镀的就是0.85H0.9L，这样出现的结果是不是就是yin99说的比例因子不一样？是不是需要把sio2也修到0.85，作出了的就是0.85H0.85L呢？

likeoe

应该是你说的情形，H或L相对于控制片来说，其比例因子应该是一致的。在实际镀制过程中，即使已经修到一致，还会有细微差别，就是我说的起始位置的随机性问题。如果理想情况下，将修正挡板360°分布，这种随机性问题可能会降低，还有如果蒸速比较慢时，这种效果也会削弱，但蒸速太慢在实际工艺中会引发其他问题，如折射率，牢固性等。

loyaldavis

以下是引用ahcg在2004-5-14 10:08:03的发言： 建义研究一下该机的修正挡板，好象是活动的，是否镀不同材料时打开或收起。

谢谢！

这种挡板我们正在考虑

用一块挡板去遮挡两种物质确实有很多的缺陷所在

zz

单层膜的均匀性和配比如何关连？

单层膜和多层膜的均匀性一致吗？

不同膜系的均匀性一致吗？

楼上各位难道建议每一膜系都做个修正板？

loyaldavis

以下是引用zz在2004-5-24 16:06:46的发言：

单层膜的均匀性和配比如何关连？

单层膜和多层膜的均匀性一致吗？

不同膜系的均匀性一致吗？

楼上各位难道建议每一膜系都做个修正板？

只针对每一种物质去作挡板，当然假定每一层都是相同的！

针对不同膜系的不同挡板我觉得太繁琐了吧！

现在我考虑的正是怎么解决这个问题，做不同物质的挡板

zz

几种料就弄几个板是吧？

单层膜的均匀性和多层膜的均匀性之间存在一定差异了。

isfm

做不同物质的挡板

从图中看可以处理两种材料的，但很多膜系是需要用多种材料的，大家建议建议怎样设计能修多种材料的修正机构。