2004-4-30 06:23:00 | 显示全部楼层 | 阅读模式

相同基底,温度下。ZrO2牢固性达标,TiO2在24小时潮湿试验后小范围脱膜。蒸发速率3.0。请教各位高手

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2004-4-30 07:25:00
你用的是什么基才?
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2004-5-1 04:25:00

基底加温到多少度?恒温多长时间?

蒸发速率应 5A/s。

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2004-5-1 05:28:00
速度3.0也差不多了,那你放氧量是多少?只镀了单层TiO2吗?
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2004-5-2 01:58:00
放氧量是1X10-4
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2004-5-2 14:51:00

使用熱蒸鍍嗎…有可能是油氣或是基板有不潔,造成脫膜…

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2004-5-2 06:42:00

你的单位是Torr吧,一般放氧量不应比1X10-4大,你可以把放氧量改为0.8X10-4或0.9X10-4试试,只要膜层不出现吸收就可一直改小放氧量。

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2004-5-2 15:51:00

谢谢各位高手!我用的是K9的基底,加温300度,保持40分钟。e枪蒸镀。氧压3X10-2

测试用只做了单层的

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2004-5-6 00:29:00
是OSIO吧镀时要在最后一层镀二氧化硅当保护膜才不会氧化
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2004-5-6 00:57:00
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2004-5-7 23:45:00
膜层太厚或基片有问题。
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