Material: Nd:YAG/Cr:YAG Monolithic Liquid Epitaxy Grown and Co-doped Cz Tech

kaka · 发表于 2011-5-19 13:43:59

本帖最后由 kaka 于 2011-5-19 13:45 编辑

Material: Nd:YAG/Cr:YAG Monolithic Liquid Epitaxy Grown and Co-doped Czochralski Technique

Nd Dopant: 1% to 3.5% Nd

Cr Alpha: 0.5 cm-1 to 7 cm-1

Cross Section Dimensions: 1.3 mm +/- 0.1 mm

Length Dimensions: 0.5 mm to 3.5 mm including Cr layer

Flat-Flat Cavities

Coated with HR and PR dielectric IBS films for both 946 nm and 1064 nm output

Pulse widths: 0.4 ns to 3 ns

Pulse Energies: 1 microjoule to 20 microjoules

Pulse Rep Rates: 1 to 100 kHz

Ready for mounting and operation wafer&chips.jpg

kaka · 发表于 2011-5-19 16:22:13

kaka · 发表于 2011-5-19 16:23:29

kaka · 发表于 2011-5-20 08:23:43

kaka · 发表于 2011-5-20 08:44:42

本帖最后由 kaka 于 2011-5-20 08:45 编辑

300ps to 3 ns

1 uj to 20 uj

1 to 100 kHz

1064 nm
946 nm
532 nm
473 nm
266 nm

kaka · 发表于 2011-5-20 10:06:06

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kaka · 发表于 2011-5-20 10:29:39

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kaka · 发表于 2011-5-20 10:34:58

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kaka · 发表于 2011-5-20 10:39:52

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kaka · 发表于 2011-5-20 11:21:56

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kaka · 发表于 2011-5-20 11:23:12

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liluplanet · 发表于 2011-5-20 13:12:53

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