大家来讨论下怎么有效减少膜层粗糙和瑕疵

Jesus · 发表于 2003-4-11 19:38:00

[这个贴子最后由Jesus在 2003/04/11 11:39am 第 1 次编辑]

如题，我相信这是很多镀膜工作者在探寻的问题。
希望做过相关方面工作和有所想法的同行一起来讨论讨论其产生的机理。
和减少膜层粗糙，减少瑕疵的方法。
有兴趣的朋友一起来啊。

ofeiying · 发表于 2003-4-11 22:22:00

本人认为：膜层表面是否粗糙，和基底的温度、蒸发速率、工转速度有很大关系，可以试着提高基底温度、减小蒸发速率、降低工转速度来提高膜层表面的质量。

wjf990 · 发表于 2003-4-12 03:02:00

同意楼上的观点，教材上也就这些个方面哦

ic5 · 发表于 2003-4-12 18:14:00

我认为还是工艺方面的因素，还有设备自身的缺陷问题的影响，要改变很难！

ababab · 发表于 2003-4-12 21:16:00

工艺两字讲起来简单但真做起来又谈何容易，老板只注重效益根本不可能让你做太多实验。

Jesus · 发表于 2003-4-14 20:28:00

to ic5:
工艺方面可能的原因我想就如ofeiying兄所提的那些了。
但是你所说的设备自身缺陷所可能带来膜层的缺陷。
这设备自身的缺陷又可能是哪些呢？
有什么可以改变或弥补设备缺陷的好方法吗？

风寒雪月缺 · 发表于 2003-4-14 23:44:00

最近我镀倍频增透膜时出现真么一个情况:起始是膜有小点子,但当用酒精擦拭以后留下很明显的痕迹,呈雾状的白花花一片,是什么原因造成的呢?????

Jesus · 发表于 2003-4-15 00:48:00

我觉得你所看到的小点子应该是由于清洁、擦拭不干净所留下的灰尘等的颗粒。
相对来说，这里膜的结合力不很强。
你用酒精等擦拭后很容易从这些点开始造成薄膜片状的破裂，从而呈现雾状。不过你可以在显微镜下看看膜层是否破裂，如果已经破了，应该就是这种原因引起的。
小点子还可能是离子源或电子枪的喷溅的溅点。
但这些溅点不会对膜层的牢固度造成很大影响。

ic5 · 发表于 2003-4-15 01:33:00

TO:Juses
设备的缺陷有许多种,这主要由设备的厂家所提供的部件所影响.就如电子枪而言,有180和270度电子枪,其优缺点不言而喻.但这些因素是可以从设备的改造上进行避免,但也需要一定的经验和试验基础.

optoelectron · 发表于 2003-4-18 04:12:00

风寒雪月缺，你也是山大的？也搞镀膜！哪届的？哪系的？我是光电99届的。有空大家多切磋切磋，呵呵

ic5 · 发表于 2003-4-18 19:32:00

楼上的师师兄！我是山大光电系97级的！你在哪家公司就职啊！我的e-mail是water@aoctel.com，希望能和你多切磋哦！还有那个山大一品堂的，你是山大的吗？

风寒雪月缺 · 发表于 2003-4-19 02:13:00

哇塞，一下遇到2个同门，我是山大光电98的，在青岛海泰光电工作。同门的师兄师弟多多关照了。

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