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有谁做过软边光阑的经验

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发表于 2003-7-6 04:50:00 | 显示全部楼层 |阅读模式
请教镀膜高手,如何实现一个正方形的软边光阑,具体的说是在一个直径50mm内有一个25×25的正方形,在正方形的内部是R>99%的高反膜,在外部是R<0.5%的增透膜,过渡区要求0.5mm,在过渡区内要求R的变化是渐变的,即从R>99变化到R<0.5不能突变。如何做一个机械掩膜实现这个功能,请高人指点。
 楼主| 发表于 2003-7-12 07:15:00 | 显示全部楼层

有谁做过软边光阑的经验

孤独呀
发表于 2009-3-11 21:14:41 | 显示全部楼层
楼主,你好,不知你是否还经常看这个论坛,我现在也需要这样的软边光阑,就搜出你这个好久之前的帖子,回复一下,希望你能看到,或者有同行能看到,可以给予指导。谢谢
发表于 2009-3-12 16:23:09 | 显示全部楼层
过渡区域的要求有点...............
没人可以测的了,没实在意义
能解释下渐变要求在实际中的应用
发表于 2009-3-12 20:02:58 | 显示全部楼层
楼主的要求我也不太理解,不知道他主要做什么用。我的要求,是中间透,周围反,这样类似与一个光阑,可以消除衍射吧。
发表于 2009-3-12 23:31:48 | 显示全部楼层
本帖最后由 ds1234567 于 2009-3-12 23:45 编辑

我画了一张图,镀高反时镜框是25*25的,你可以在框和镜片之间加1毫米厚25.5*25.5框,目的是使蒸发介质钻进一部分,1毫米厚度可根据效果调整,也可以外薄里厚,到25.5时间隙到零。

镜座.doc

30 KB, 下载次数: 13, 下载积分: 光电贝 -10 元

发表于 2009-3-15 07:45:54 | 显示全部楼层
在97年第3期 ‘光学技术’上有1篇“超高斯渐变反射率激光反射镜”,述说了这种方法。
文章说1.06μm反射膜是在北京DM-450上,蒸发源距基片25cm,真空度3*10-3pa,电子枪6kV,束流70mA,膜系设计的基片1.52,双层增透2.05 和1.45,渐变厚度膜2.05。又说“为获得膜斑直径较小的渐变厚镀膜,常用中心带小圆孔的固定挡板技术,利用小孔变缘对膜料粒子的散射而造成的 ‘阴影效应’在基片上沉积出中间厚,边缘逐渐变薄的渐变厚镀膜”
发表于 2009-3-16 09:13:10 | 显示全部楼层
做渐变膜多是应用遮挡\阴影
但楼主问题的关键是根本没发测试,谁能准确测试0.5区域的渐变
发表于 2010-3-14 11:18:01 | 显示全部楼层
如果只是边缘部分要满镀高反膜,中心不镀。这样的话工装怎么实现?
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