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脉冲真空电弧离子源,也称为脉冲等离子体发生器或脉冲多弧离子源。它可在高真空下( 以上),利用真空脉冲电弧放电使阴极材料蒸发并电离,形成纯净的等离子体,沉积在基片上之后形成所需膜层。由于在整个工艺过程中只产生纯等离子体,膜层性能稳定,可在低温下生成表面光滑细致且附着力极好的高质量膜层。 该离子源可用于各类金属膜、合金膜以及类金刚石薄膜的镀制。采用脉冲真空电弧离子镀技术来研制类金刚石薄膜,不需要氢及其它含氢化合物,所以获得的膜层中不含氢,这一新技术目前在国内只有西安工业学院独家掌握。采用这一新技术镀制类金刚石薄膜的优点有:⑴膜层性能稳定;⑵3.4μm处无吸收峰。 脉冲真空电弧离子源工作条件及相关参数: 真空度: 5′10-2 Pa ~ 以上 阴极工作电压: 60~400伏 起弧极工作电压:300~800伏 脉冲频率: 1~10Hz 电源总功率: 不超过10千瓦。 |
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