请问等离子源和离子源的区别在哪里？？？ (无内容)

liuchuntang

风寒雪月缺

[这个贴子最后由风寒雪月缺在 2003/05/06 02:50pm 第 1 次编辑]

好象是一个东东

optionbeam

等离子体源提供的是等离子体,离子源提供的是离子.

roman

虽说最终工作效果是一样，但是而这还是有区别的。从技术上讲我还不太清楚，单就从保养费用而言，离子源的费用是惊人的。
如果那位仁兄在技术上是强项，还请能够作些解释。

hakuto

主要的区别在能量，我这里有资料，请来电索取。010-65660071刘先生

chugqchugq

应该说等离子体源（APS)的费用是惊人的，除APS外，其他都叫离子源。

leeloocong

离子源出来的也是等离子体啊

nanovac

国产APS离子源那里有卖的？

flashzhang

常用辅助镀膜手段都是利用高能量等离子体的原理

据我所知有三种：

离子枪，等离子枪，RF

离子枪发射离子，等离子枪直接发射等离子体

这是最主要的区别

zz

APS也是种离子源，不过APS的能量强过一般的常用HALL源好几十倍。

syb_Q

离子源和等离子源对材料的表面处理有不同：对于在绝缘基材表面的电荷积累，有区别，需要中和等增加沉积速率等

nanovac

离子源等离子源只是相对概念，即离子在空间的中和程度。所有霍尔离子源都有一定程度的中和（等离子化）。莱宝的APS等离子源也是利用端部霍尔效应，与其它霍尔离子源原理上并无原则差别。只不过其阴极电流极大而又采用了很长的轴向电磁场而已。当然，其发射离子中和程度很高，90%？
可以这样说，只有两种离子源
1  霍尔离子源（无栅）：轴线磁场抽取离子流
2  考夫曼离子源（栅板）：栅板抽取离子流
RF离子源（有时又叫ICP离子源）是考夫曼离子源，只不过等离子体发射采用石英腔体加RF电源。唯一有点另类的离子源是ECR离子源，半导体行业用得多。
所谓等离子源只不过是离子源中中和得较好。