光胶的问题。。。。。

leehunter · 发表于 2003-4-4 21:14:00

光胶在下盘的时候也会出现变形，只是个比较难解决的问题，一般有经验的老师傅在抛光的时候会知道该怎么抛下盘后变形量能减为最小，你即使采用双面抛也会产生变形的，而且双面抛精度不高，他一般用于大量抛光的情况下，精度最高的是手抛，一般高精度的晶体抛光都采用手抛。

leehunter · 发表于 2003-4-4 21:16:00

to casix
我谈不上精通，你是在华科吗？我只知道华科被JDSU买了，不知道现在情况如何，以前华科做的东西还可以吧。

casix · 发表于 2003-4-4 23:40:00

唉，以前就别提了，现在一般般

lzk · 发表于 2003-4-4 23:46:00

楼上的是华科的哪一位啊。图片上的mm还不错嘛。如果还在华科的话我有事情找你帮忙。

casix · 发表于 2003-4-4 23:53:00

[这个贴子最后由casix在 2003/04/04 03:57pm 第 1 次编辑]

不好意思,台兄咋是个乌龟头像

casix · 发表于 2003-4-5 00:22:00

已经分居了，孤家寡人

xyqy · 发表于 2003-4-5 22:04:00

前两天刚刚去过华科。
目前主要的重点是放在镀膜方面吧？
光通讯方面主要放在深圳。

光胶的晶片研磨之后的变形是很正常的，主要原因还是研磨加工中产生的应力应变。想办法消除应力就可以了。

wjf990 · 发表于 2003-4-6 06:15:00

光胶时非胶合面光圈变形的原因主要是：（1）零件大而薄，克服办法——严格控制光胶面的光圈，一般要求光圈数小于1，局部误差小于0.2，表面疵病不低于B/1x0.025级；（2）光胶面光圈太低，光胶时用力过大，办法——光胶时用力要均匀

萤火虫 · 发表于 2003-4-9 22:14:00

由于镜片薄，一面磨砂后，亮面变毛面，对另一面原有“拉”力变强，导致原有面光圈变形。

红星 · 发表于 2003-4-10 01:33:00

可能是抛光时没控制好面形特别是第一面及光胶可能加工精度未达到

xvchuan · 发表于 2003-4-10 06:41:00

抛光层和细磨的应力是不一样的
也许可以用氢氟酸腐蚀一下以消除应力

casix · 发表于 2003-4-10 16:48:00

具体一点？