关于1064增透膜的透过率问题

xiaojiang007 · 发表于 2011-3-21 19:42:24

ftz1981 · 发表于 2011-3-21 21:37:34

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有关膜系设计的或者是 tfc软件的设计实例或中文使用说明感觉您是行业里的高手前辈谢谢了

木口 · 发表于 2011-3-23 19:30:56

th7729 · 发表于 2011-3-25 10:39:57

sery1234 ，你好，想请教您一个问题，膜层的牢固度和抗损伤阈值，是那些因素在影响的啊，谢谢

sery1234 · 发表于 2011-3-25 11:06:25

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呵呵，不敢，共同提高，膜层的牢固度这个问题，我大概谈下我自己的看法，首先，牢固度，换个说法，应该就是膜层结合力的问题，这应该和下面的因素有关。
1基材和膜料之间是否匹配，特别是第一层先镀什么膜。
2镀膜温度。这又分金属膜和氧化物膜，一般来说，温度主要是消除膜层之间的应力问题，合适的镀膜温度可减小压力。
另外对于玻璃这类的材料，高温可以去掉表面的一些附着物。
3镀膜离子能量，离子能量越高，迁移能力及反蒸发能力就强，膜层会致密，就拿镀膜的常见方式来说，蒸发镀膜才零点几电子伏特，而溅射镀膜有几个电子伏特，如果是离子镀，可以达到几十。
其他的大家在补充下了，

sery1234 · 发表于 2011-3-25 11:09:19

至于损伤值的这个问题，也镀过一些激光膜，但是理解太简单，不好多说什么，注意选用的膜料，还有不要有太多的镀膜缺陷吧

th7729 · 发表于 2011-3-25 11:18:07

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谢谢您的指导，我这边是在晶体表面镀膜，镀1064nm（R%<0.2%）的单点增透。
基质是DKDP晶体，这种晶体的莫氏硬度只有2~3之间，比较脆，而且它容易潮解，不能使用常规的擦拭手法（使用脱脂棉蘸酒精乙醚擦拭）进行处理，会损伤表面。
而且这种晶体在150℃左右就会发生相变（晶体结构发生变化），所以感觉平时的方法听误解的，不知道您有什么建议，谢谢

sery1234 · 发表于 2011-3-25 12:13:48

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我知道了，我也在做类似的产品，。这类的产品一般只能冷镀，这样的话，首先要保证光学指标，其次用吸收小点的材料，不要用ti3o5这样的吸收较大的材料，用ta2o5之类的。这样的话一定要加离子源，。否则很容易出现你说的情况。

th7729 · 发表于 2011-3-28 11:49:55

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您好，前两天出去干活，一直没上线，不好意思了~
      您说的关于膜料的的问题我们也考虑到了，Ta2O5的我们也在用。不过您说的光学指标指的是：剩余反射值还是基片的光洁度方面的，或者是其他指标。
      如果是基片的光洁度的话，现在我们的处理手段基本已经是极限了，不能做到和K9之类的光学材料做的器件那种光洁度，条件所限啊，擦拭处理是没办法的。
      对了，您现在做的是什么材料的，效果怎么样啊，方便的话就聊聊，呵呵

sery1234 · 发表于 2011-3-28 12:11:38

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光学损耗，主要和光谱的指标有关，只要你镀膜的光谱曲线达到指标的话就可以了

sery1234 · 发表于 2011-3-28 12:13:08

指标达到如果损耗还高的话，就要考虑你材料的损耗值了

龙之传人 · 发表于 2011-4-4 22:59:09

原来是镀膜高手

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