请问离子源是如何清洗的，角度是否一般为30°？为什么？

z1206l · 发表于 2010-12-27 13:55:32

longmin 发表于 2010-12-7 23:51
有角度
是因為要去除孔隙上的污染

楼上的太专业了。

faith3h · 发表于 2011-2-17 04:52:56

回复 xinliangrizhao 的帖子

是离子源清洗基片啊，为什么有的离子源角度是30度，而有的又是0度呢？请指教！

xcy1075 · 发表于 2011-2-18 16:26:47

b06010914 · 发表于 2011-2-18 22:50:30

不同的离子源是不一样的，但总的来说只要离子源能照到全部球罩就能达到要求了，当然有些离子源会造成外圈离子源的能量会低的弊端，外圈曲线不好控了。
至于离子源在机器里的位置只是机器本身设计问题吧

wlinliu · 发表于 2011-2-21 10:13:54

喷砂就可以了

缘睐汝痴 · 发表于 2011-3-27 15:10:32

霍尔离子源，直接喷砂，我们是这样做的

木口 · 发表于 2011-3-28 11:13:28

JINFENG215107 · 发表于 2011-4-21 20:21:37

学习了，

jionboy · 发表于 2011-4-21 22:54:38

回复 faith3h 的帖子

角度是根据设备状况来调整的，是根据离子源的最佳辐射距离和有效面积来调整的。

xiao2011 · 发表于 2011-6-3 18:46:18

直接喷

a99533126 · 发表于 2011-6-23 11:38:27

挖出来看看

a99533126 · 发表于 2011-6-23 11:38:30

挖出来看看

[技术] 请问离子源是如何清洗的，角度是否一般为30°？为什么？