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[技术] 请问离子源是如何清洗的,角度是否一般为30°?为什么?

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发表于 2010-9-8 19:51:13 | 显示全部楼层 |阅读模式
请问离子源是如何清洗的,角度是否一般为30°?为什么?本人是初学者,谢谢大家
发表于 2010-10-11 22:45:51 | 显示全部楼层
什么离子源那部分?还是联系厂家吧
发表于 2010-10-13 19:33:24 | 显示全部楼层
用丙铜可以洗的吧.
发表于 2010-10-28 22:51:36 | 显示全部楼层
直接喷砂
我用霍尔源
发表于 2010-10-29 14:07:02 | 显示全部楼层
发表于 2010-11-4 14:36:03 | 显示全部楼层
问题太笼统,是说离子源清洁基片?还是离子源要清洗?如果是要洗离子源那跟角度又有什么关系?是清洁基片吧,安装离子源的角度?
发表于 2010-11-4 19:49:49 | 显示全部楼层
是啊!这个问题有点让人费解。
发表于 2010-12-2 11:19:39 | 显示全部楼层
喷砂,细点的,约80号黑钢砂,角度的调整是根据覆盖被镀基板的需要(垂直射入基板为最佳)。
发表于 2010-12-2 12:46:22 | 显示全部楼层
要看哪种离子源?

离子源不同,保养也有区别。
发表于 2010-12-2 17:21:23 | 显示全部楼层
不同的离子源的清理方法也是不同的。
发表于 2010-12-6 10:24:29 | 显示全部楼层
嘿嘿!清洁当然看材质,像有石墨的就不能喷!
发表于 2010-12-7 23:51:57 | 显示全部楼层
有角度
是因為要去除孔隙上的污染
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