skyperfect 发表于 2009-9-16 15:00:46

膜系设计与实际镀制膜厚比列因子关系

问题是这样的，我用中心波长为550nm设计了一个膜系，在上镀膜机镀制时，因为有个膜厚比列因子的问题，我是直接改那个中心波长到那个比列因子的位置镀膜的，但后来我用比列因子计算后发现两个方法计算的膜厚不一样，这样的话不知那种方法更接近膜系设计了，是改中心波长用呢？还是用比列因子计算好？

allenchen100 发表于 2009-9-22 11:51:19

1# skyperfect


我的建議是每台鍍膜機都應該找出該機台的比例因子，中心波長只適合小幅度的微調，這樣你在設計膜系時能夠比較快鍍出和設計相同的圖形。供你參考。

likesongs 发表于 2009-12-17 19:23:32

楼上所言极是!每台机的误差都有所不同!

z1206l 发表于 2010-5-27 15:38:18

这么好的帖子怎么没人讨论呢？

jakzhou 发表于 2010-5-31 04:00:04

shincron

苏州膜头 发表于 2010-5-31 21:00:04

回复 4# z1206l 的帖子


    我来说说：
             我认为改中心波长和比例因子都可以，误差不大的，也不会破坏膜系。
             关键是实镀以后中心波长长了就要改中心波长，如果短了就要改比例因子，这样才能尽量发挥机器的产能，增加效益。

z1206l 发表于 2010-6-2 20:53:37

楼上正解 ！

leicd 发表于 2010-6-18 16:54:22

路过，学习了，谢谢！

wdh5423 发表于 2010-6-22 14:31:56

大家讨论的是指晶控吧？我怎么没有弄明白呢

苏州膜头 发表于 2010-6-22 18:59:16

回复 wdh5423 的帖子


    光路也要调啊，比较片的高度，中心波长的调节，原理差不多的啊。

sunyan 发表于 2010-6-23 01:42:05

有点乱吧！！！！！！！！！！！

yangdaoqi 发表于 2010-8-14 21:01:40

相当乱了~~没有说清楚，比例因子指的什么，别告诉我是光控TOOLING，有这么点意思。
页: [1] 2
查看完整版本: 膜系设计与实际镀制膜厚比列因子关系