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光学镀膜技术及膜系设计
› 磁控溅射镀铝膜发灰
vacuum0714
发表于 2009-3-20 13:33:59
基板治具有無公轉或自轉呢.還是基材與圓靶是相對的
dbythy
发表于 2009-4-1 23:01:20
本帖最后由 dbythy 于 2009-4-1 23:04 编辑
............ 改用矩形靶或孪生靶,呵呵.................打开检查磁场对否?用的什么惰性气体?
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磁控溅射镀铝膜发灰