feifeilove
发表于 2008-11-17 16:48:17
请教脱膜问题
用离子束辅助轰击镀铬膜，镀出的膜在灯下看很好，但轻轻擦拭后会出现数十微米的星星点点的针孔，请问这问题出在哪
真空室，基片处理干净
另外请问霍尔离子源轰击时，阳极电流多大比较好
zzzz
发表于 2008-11-18 08:08:07
CR要熔好
它熔点高熔好不易
涛哥
发表于 2008-11-18 11:57:34
电压180伏特，灯丝电流3安培，离子束流0.5安培
bomolaonan
发表于 2008-11-18 15:26:15
问题应该出现在设备上，而非工艺本身
mass
发表于 2008-11-18 20:28:34
1清洗设备,2提高烘烤温度
yzhuang
发表于 2008-11-18 22:20:32
我们的经验是镀铬分两次镀,这样出现针孔的机率会小很多
zzzz
发表于 2008-11-19 08:25:08
楼上的明显投机取巧
但也可能会碰到楼主的问题
chris_yun1113
发表于 2008-11-19 11:33:48
建议采用离子源辅助一下
onet7575
发表于 2008-11-20 09:50:07
加个轰击棒效果会好很多,还有镀金属膜的时候最好不要擦,没加保护膜的肯定一擦就掉.
zzzz
发表于 2008-11-20 10:12:26
到底是轰击棒好还是离子源好
C楼和O楼PK下
缘睐汝痴
发表于 2011-12-1 11:13:00
什么是轰击棒呢，还没有见过
243667046
发表于 2011-12-1 13:43:44
要保证基片清洗、储存、传递等过程中不要被灰尘污染，再就是真空室卫生，熔药