huhu 发表于 2008-6-28 10:54:41

毕竟溅射机型源与基板的距离相对较近，而且能量偏大，表面质量的控制明显较蒸发机型压力大。

再现性较好，规模连续生产的优势较大，生产流程也比较好控制。柔性不足，材料选择面较小，更换复杂。

Hellen_vac 发表于 2008-6-28 11:20:03

回复 11# huweiqian 的帖子
也给我发一份。
E-mail: hellen_0428@sina.com

liutingming 发表于 2008-6-28 15:34:29

hao!haohao! ..................................

AppliedThinFilm 发表于 2008-6-28 20:44:44

原帖由 huhu 于 2008-6-28 10:54 发表 static/image/common/back.gif
毕竟溅射机型源与基板的距离相对较近，而且能量偏大，表面质量的控制明显较蒸发机型压力大。

再现性较好，规模连续生产的优势较大，生产流程也比较好控制。柔性不足，材料选择面较小，更换复杂。

您提到的这个表面质量控制问题，能说的更细点么？谢谢

nation 发表于 2008-6-29 16:27:35

有好也有差的地方，没有东西只有好处没有坏处的。

huweiqian 发表于 2008-6-29 19:35:17

由于资料较大，大家留下的邮箱要能够接收10M附件的邮箱，否则没有办法传过去。

xbimr 发表于 2008-6-30 18:50:10

5301929@qq.com
thanks！

nation 发表于 2008-7-3 23:01:23

有溅射镀光学膜的很多啊关键是你是什么设备。

huweiqian 发表于 2008-7-7 08:51:23

相关的资料已发，大家有什么问题，可以多沟通了。

huhu 发表于 2008-7-8 21:40:42

回复 21# huweiqian 的帖子

资料已经收到，非常感谢！

xbimr 发表于 2008-7-9 08:15:11

原帖由 nation 于 2008-7-3 23:01 发表 static/image/common/back.gif
有溅射镀光学膜的很多啊关键是你是什么设备。

如果方便，这位仁兄请介绍下现在国内主要用溅射做光学膜的类型和设备哈，也算大家交流下。

huweiqian 发表于 2008-7-16 20:38:52

国内目前用的比较多的可能是日本新科隆的RAS系列吧，做的就是民用产品上用的那些常规薄膜，比如IR CUT等。另外，不知道莱宝的溅射设备有没有在高精密光学上使用？AML的CFM系列也已经有几家单位在采用。
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查看完整版本: 询问：有谁做过磁控溅射方式来镀光学薄膜方面的研究吗？