dongbeiren 发表于 2008-4-28 10:07:33

镀膜材料材料(TIO2和SIO2)的折射率与温度及真空度之间的关系

论坛上高手比较多!我有困难需要各位帮助.
那位有关于TIO2和SIO2的折射率与温度或成膜温度之间关系的技术文章?国内的和国外的都可以,小弟需要学习一下.或者关于设备(电子枪蒸镀)成膜均匀性方面的文章都可以!!!拜托了,谢谢了.我急着用!!!

zzh1011 发表于 2008-6-6 11:24:04

成膜均匀性方面的文章

qx__wei 发表于 2008-6-11 09:04:26

下载了，我用的是2050的机子，均匀性一直不好！

qx__wei 发表于 2008-6-11 09:05:59

除了MASK的形状外，其他的影响因素都包括哪些！？谢谢，请指导！！！

yoyo5426 发表于 2009-5-11 18:04:18

4# qx__wei


主要的就是sio2的蒸发速率和电子枪功率的控制！

yoyo5426 发表于 2009-5-11 18:12:46

那位高手指点下镀膜机光路的调整！
谢谢！

fan_wl 发表于 2009-5-11 18:43:50

zll0605 发表于 2009-5-19 11:09:35

呵呵谢谢了，下来看看

007foxhot 发表于 2009-5-19 12:08:54

好好学习学习~~~谢谢

trust$ 发表于 2009-5-20 22:14:34

好东西，学习学习。。。。。

hannibal159 发表于 2009-5-21 17:23:01

我觉得应该是真空度越高，环境越干净，那么膜层致密度就可能高些，那么N应该也高一点吧    至于温度   也差不多，应该是温度高了以后的话   成核率就高   ，N也大   但是温度还是不要太高

chunweili2008 发表于 2009-5-22 16:00:18

好好学习学习~~~谢谢
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