设计5层AR膜优化出现问题啦!帮帮忙啦!!
我用ZRO2(2.0)和SIO2(1.46)设计5层AR膜,为W膜,目标为440NM=0,510NM<0.5,615NM=0,基板GLASS(1.50),用TFC模拟,可为什么总是在优化时出现“iterations have not converged yet,press continue for more”,按continue没什么反应,按很多次值还是一样
的:或者出现“stopping criteria met”,出来的优化值虽然都是W膜,但都是反射在4%以上呀!为什么会这样?怎样解决呀?优化
时需要什么样的技巧呀?各位大侠,帮帮忙呀!!!!!!!!!!谢谢呀! 总是你的哪里设置有问题
你怎么讲,没碰上的人如何知道是嘛事. 一个很大的可能就是TFC的target没有设置好,试着调整一下。
另外,你可以把TFC的文件attach上来,大家就可以更好的帮你出主意了。否则只能猜猜猜。 设置值不对。所以为出现以上问题。提议把软件好好学下,还有薄膜设计原理。 哈哈,是因为我出射介质改成AIR啦,而背面也没有镀膜,所以有反射存在,谢谢大家这么热心!不过还是想向大家请教一下一些优化的心得或技巧,比如象我上面的要求,我若初始设计为L0.2H0.2L2HL,target选离散的,就是上面的3个点,可优化出来还是510nm还是大于0.5%,各位大侠,能否模拟一下,若成功,能否告诉我一下细节:比如target怎么设置的呀?优化设置选什么方式?设置值是多少呀?有用到什么隧道优化之类的东东没?谢谢呀!!!!!!!!!! 这个是有经验的才行呀,要好好学习呀,我也不太动呀 嘿嘿
你把510的TARGET改为0不就可以了吗 软件只是一个工具,只有理论知识足够的时候才会听你的,就有人用4层TIO2SIO2优化出420-680R《0.2%的结果。 nation 发表于 2008-7-1 05:56 static/image/common/back.gif
软件只是一个工具,只有理论知识足够的时候才会听你的,就有人用4层TIO2SIO2优化出420-680R《0.2%的结果。 ...
兄弟,优化容易,镀出来就不容易了.
不要迷信层数少就是好设计 大家说的各有各的道理啊
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