光电极值法监控非规整膜
各位大侠,我现在想用光电极值法监控非规整膜镀制介质高反膜,我现在想能不能先把规整膜镀制过程中光控值随着膜厚的变化曲线,按比例先估算出非规整膜终止点的相对光控值,再按照估算值进行监控???大家还有些什么建议,给提提,我在这里谢谢了!!!!
要看你什么机器了
如果每次走的幅度都不一样怎么算啊,是不是可以考虑直接调波长啦 是啊,试验过程中就是由这个问题。调波长应该是可以的,我就是想看看这种方法行不行得通。不知道把很多次试验的结果进行综合平均考虑,得出一最后监控曲线,然后估算停止点,这样可以不可以。 做的是寬帶反射吧?一個膜堆不夠吧? 用2個膜堆可以考慮直接調波長(前提是對迭加處的精度要求不高)! 介质高反层数太多就难控制, 因为变波长累计误差太大。加上修正误差,很难量产。非规整膜还是用晶控方便。 LZ清楚光控原理和工程方法?这么牛X去做光控系统好了. 我想做的膜系的层数不是很多,大概就十几层,晶控对非规整膜的控制是很不错,但是我们试验室的那机器上没有晶控设备,所以才想用光控法监控。 上世纪70,80年代有人做过,可查找早期会议资料和论文,会有帮助 gb936 发表于 2007-11-13 01:41 static/image/common/back.gif
介质高反层数太多就难控制, 因为变波长累计误差太大。加上修正误差,很难量产。非规整膜还是用晶控方便。
朋友想问下 难道光控就不能监控非规整的膜系吗有什么方法可以呢 请教下 谢了 xiaojiang007 发表于 2012-8-25 13:39 static/image/common/back.gif
朋友想问下 难道光控就不能监控非规整的膜系吗有什么方法可以呢 请教下 谢了
可以的,只是要反复试验确定参数,太麻烦。早期的光学薄膜教材,工艺都有详细的介绍,那时自动控制技术落后,薄膜制作者只能花费大量时间做实验,确定参数。现在的光谱测量和自控技术应该容易多了,镀膜机配套也先进了 实际上可以做到很方便,不用反复确定参数,而且结果重复性很好。 gb936 发表于 2012-8-27 12:16 static/image/common/back.gif
可以的,只是要反复试验确定参数,太麻烦。早期的光学薄膜教材,工艺都有详细的介绍,那时自动控制技术落 ...
我的机台是光控的设备,全手动的那种,身边没有什么配套的检测设备,所以很棘手现在,头大的很 ,麻烦朋友可以讲解下吗 谢谢了光控监控非规整的膜应该是有一个规程或是步骤吧可以提示下我吗 非常感谢
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