harryjob 发表于 2006-5-14 05:49:00

膜料点的产生

各位好，今天上司问我膜料点产生的原因有那些？
请各位指点指点

fawang 发表于 2006-5-16 05:18:00

<P>哈哈,看来你也是一个新手呀.</P>
<P><FONT size=2>镀膜点子一般就是薄膜缺陷<BR>一般说来，缺陷的成因有以下几种：（1）由薄膜生长过程产生，如不同的基板温度缺陷不同；（2）由基板表面原有缺陷引起，如镀膜区环境和基板不够清洁产生的；（3）沉积过程产生的，如材料的喷溅。对于结瘤缺陷，一般认为其形成的原因是沉积过程中种子粒子(核)的遮掩效应引起的。种子的来源很多，有基板本身产生的，如表面的污染、附着在基板上的抛光和清洗的残余物，沉积室中的杂质，还有膜材料的增发源本身产生的，如材料中捕获气体的爆炸，熔融材料的溅射，高温固态相移（如二氧化铪/二氧化硅薄膜的种子产生），静电排斥等。研究结果表明，对于不同沉积条件和沉积方式，种子的形状、大小、深度也不完全相同，其原因在于种子的来源不同。如果种子是源材料的熔融的喷射而引起的，则由于表面张力和重力，预计种子的形状是规则的球形或旋转椭球形的，则形成的缺陷是典型的结瘤缺陷。如果种子是由于固态源的喷射或弧光产生的，则种子的形状是不规则的，形成的缺陷的形貌也比较复杂。由上述分析可知，可以根据缺陷的形貌、大小推知种子的形貌、大小，通过详细研究种子的形状、深度、组成推知种子的来源，从而优化成膜工艺消除种子源。</FONT><BR></P>

raofengx 发表于 2006-5-16 22:59:00

<P>一般是灰尘引起，环境脏、真空室脏或镀膜盘、镀膜工装脏等</P>

jingxiaobao 发表于 2006-6-15 06:05:00

<p>如果你的基板不清洗干净这是最直接的原因,或者你装基板的周转箱是否处理干净等等.</p><p>或者你的蒸发工艺有问题,膜料的熔化工艺, 沉积时膜料的状态,是否有溅料现象,这些都应该考虑进去.</p>

zzzz 发表于 2006-6-15 15:46:00

凡是搞镀膜的谁没碰上点子问题呢?

faye119 发表于 2006-7-5 19:17:00

<p> 想请教楼主，温度不同怎样的会引起点子呢／？？</p><p>我们镀膜的时候三种料分别用三个不同的温度。一直出现的点子问题无法解决。帮帮忙看看。。　</p><p>也可以电邮我：</p><p>faye7758@163.com</p>

吴海明 发表于 2007-3-15 01:39:00

<p>有很多原因都可能造成膜料点的产生: 蒸发速率的变化,磨料没熔透~~~~~~~~~~~~~~</p><p></p>

laoxianccc 发表于 2013-4-26 15:59:05

{:6_140:}二楼想请教您一些关于SIO2镀膜点子的问题，谢谢！
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