ZEMAX中的近轴像高与实际像面的像高有什么区别?
近轴像面的像高和近轴像高是一样的吗?如果不是,有什么区别?使用PIMH(在指定波长的近轴像面上的像高)的操作数能用来控制聚焦系统聚焦光斑的大小吗?好像效果很差啊!请大侠们指点指点,谢谢!!
没大侠愿意帮忙解答疑问吗??
近轴像面的像高是根据公式计算的理论值,实际象高考虑了畸变等影响了
近轴像面和实际的像面是同一个面吗?
近轴像面指是的高斯像面,而实际像面一般选取最佳像面。
<P>"使用PIMH(在指定波长的近轴像面上的像高)的操作数能用来控制聚焦系统聚焦光斑的大小吗?"</P>
<P>象高来控制聚焦光班大小好象没听说过,这是两不同的概念。</P> <P>那所谓的近轴像高就是在高斯面上的理论像高,而不是近轴光在实际像面上得到的像高了?</P> 以下是引用qhw在2005-10-28 13:03:00的发言:<P>"使用PIMH(在指定波长的近轴像面上的像高)的操作数能用来控制聚焦系统聚焦光斑的大小吗?"</P><P>象高来控制聚焦光班大小好象没听说过,这是两不同的概念。</P>
那请问要用哪个或者哪些操作数来控制这个光斑的大小呢?还请指点一二,不胜感谢!! 别只指望用哪个操作数,把像差理论好好看一下吧。
看明白了就会用操作数了。看不明白操作数估计也用不对。
页:
[1]