有用溅射的方式,也有热蒸发,关键是膜层与基底的附着力,以及镀膜后的保护。
<P> 这方面我是高手,小日本的技术。</P>
<P>13921417963</P>
<P>我感觉楼主是不是已经搞定了,都没有发言了。</P>
<P>如果是国产机的话,不可能要抽到-4以上的真空再镀膜吧,这样很浪费时间啊!</P>
<P>大家有意见多交流,我也是做镀铝膜的。</P>
glass+離子轟擊+sio2+tio2
镀铝只要抽到5.0E-3就可以了,用离子源轰击五分钟+sio2和Tio2保护..速度很快的.大约1.5小时一罩
<p>牢固度是搞定了</p><p>但是膜发雾、发蒙啊</p>
我们做铝膜也没用那么长的时间啊~~我们抽到1.2E-2就起靶了啊~也没发现有啥问题啊~~
<p>溅射的效果自然比热蒸发的好了</p><p>////////////////</p>
<p>如果起雾的话,你镀铝时的温度是多少呢?</p><p>建议最好不要超过80度为宜.</p><p>有空的话多交流</p><p>0755-21183441</p>
<p>温度不是问题</p><p>而且提高温度也没问题.</p><p>郁闷ING</p>
<p>al膜外加层Mgf2保护</p><p>行吗?</p>
<p>保护层肯定杀有的了.</p><p>//////////////</p>