求助AR光谱镀膜改进
本帖最后由 cai004 于 2014-6-3 15:14 编辑红色的是客户给的样品
另一条是我做的
是2层AR TIO2+SIO2
如何让光谱左移是不是要增加TIO2的厚度?
尽量和客户一致
谢谢 大家 我弄好了 是TIO2多了一些
现在光谱图很好
因为是磁控溅射做 所以 以前的H4啊之类的 都不能用
而且蒸发成膜速率比磁控快很多
太厚的膜系又不行 影响生产效率
厂里也没有膜厚仪之类的测试 看来是个620nm左右的单点AR,目前看来是镀厚了,但还无法分析是H偏多还是L偏多,建议你结合自己常做的可见区AR,估计H和L的比例系数是否正常。
你可以先试着减少TiO2,减少量需要自己把握,然后测试曲线观察效果,透射峰向短波方向移动的多少。注意,透射率不要出现下降,如果透射率也下降,那就是SiO2偏多l !
本帖最后由 zouyou828459 于 2014-5-30 23:50 编辑
各位膜友,此话我收回,希望和大家一起讨论更多的镀膜话题。 红色弯曲厉害,你自己的比较平滑,说明H太少,L太多。 因为是用磁控溅射做AR 没有晶控 没有光控
膜厚未知的情况下做
基底是PMMA
所以个人感觉比蒸发难很多 因为是用磁控溅射做AR 没有晶控 没有光控
膜厚未知的情况下做
基底是PMMA
所以个人感觉比蒸发难很多 按时间,每次变化5%时间 1、稳定功率后TIO2溅射20分钟,SIO2溅射10分钟,测量厚度 计算折射率,计算时间平均每秒多少厚度 。
2、设计膜系,计算每层厚度需要时间 那就只能靠时间控制了 围观一下,没做过CVD 从光谱来看确实比较简单的一个膜,1.52/2HL/1.0 的结构就可以达成。(H:TI3O5 ,L:SIO2)只楼主提到没有膜厚监控设备。其实膜厚监控最原始的设备就是人眼,从视窗观察基材的颜色变化就能比较准确判断膜厚。当然控制时间也是一种方法,只是它与蒸发速率、真空度有很大的关系,不容易控制的很准确。 本帖最后由 zouyou828459 于 2014-5-30 23:47 编辑
zouyou828459 发表于 2014-5-28 21:29 static/image/common/back.gif
此位大侠说的有道理,我这次是没仔细看清楚那个曲线,就向楼主发“飚”了,向楼主致歉,希望楼主做好个产品,我给您添乱了。
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